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為什么微波等離子體cvd法被認(rèn)為是最理想的沉積金剛石的方法?

文字:[大][中][小] 手機(jī)頁(yè)面二維碼 2022/5/6     瀏覽次數(shù):    

首先我們來(lái)看微波等離子體CVD法的技術(shù)原理:mpcvd設(shè)備運(yùn)行原理是在微波能量的作用下,將沉積氣體激發(fā)成等離子體狀態(tài),在由微波產(chǎn)生的電磁場(chǎng)的作用下,腔體內(nèi)的電子相互碰撞并產(chǎn)生劇烈的振蕩,促進(jìn)了諧振腔內(nèi)其它的原子、基團(tuán)及分子之間的相互碰撞,從而有效地提高反應(yīng)氣體的離化程度,直到達(dá)到輝光發(fā)電,產(chǎn)生更高密度的等離子體的產(chǎn)生。在反應(yīng)過(guò)程中原料氣體電離化程度達(dá)到10%以上,使得腔體中充滿(mǎn)過(guò)飽和原子氫和含碳基團(tuán),從而有效地提高了沉積速率并且使得金剛石的沉積質(zhì)量得到改善。

通俗點(diǎn)來(lái)講:MPCVD方法就是先找一個(gè)鉆石作為基片,放在一個(gè)密封設(shè)備中,注入一些氫氣、氮?dú)?、甲烷等,其中的碳元素?huì)附著在鉆石上,原本的鉆石就會(huì)不斷長(zhǎng)大。吃的是氣,長(zhǎng)出的是鉆石!

其次,我們來(lái)看看MPCVD法的優(yōu)點(diǎn):MPCVD法制備金剛石具有許多優(yōu)點(diǎn),如反應(yīng)過(guò)程中無(wú)電極,不會(huì)發(fā)生HFCVD 法中因金屬絲蒸發(fā)、游離到沉積的金剛石表面,而產(chǎn)生污染的問(wèn)題;直流等離子噴射CVD法中,在電弧的產(chǎn)生過(guò)程中,點(diǎn)火和熄滅所引起的熱沖擊非常容易造成金剛石從基片表面脫落;微波激發(fā)的等離子體,其電離密度較高等,因此MPCVD法是眾多CVD 法中量產(chǎn)高質(zhì)量金剛石的**。

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