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資訊動態(tài)
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MPCVD設(shè)備在沉積金剛石膜的工藝方面具有以下共性∶
1. 碳源。包括各種含碳化合物甚至石墨，如烷、烴、烯、炔醇、酮、CO、CO2及CF4等；
2. 氫氣。這是抑制石墨形核、生長并刻蝕共生石墨的主要氣體；
3. 合適的碳氫比。氣源中C/H比一般在10%以下；
4. 合適的基片溫度。除低溫沉積的特殊性外，基片溫度一般限制在700℃-1200℃的范圍內(nèi)；
5. 低的工作氣壓。一般小于一個大氣壓。
6. 氣體激活技術(shù)。至少要有一種（或幾種）氣體激活技術(shù)來激發(fā)碳源和氫氣，產(chǎn)生具有活性含碳基團和原子氫的金剛石膜沉積氣氛。